Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology - Seiji Samukawa - Książki - Springer Verlag, Japan - 9784431547945 - 17 lutego 2014
W przypadku, gdy okładka i tytuł się nie zgadzają, tytuł jest poprawny

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology 2014 edition

Seiji Samukawa

Cena
zł 264,90

Zamówione z odległego magazynu

Przewidywana dostawa 2 - 14 paź

Nasi klienci mówią:

14-dniowa polityka zwrotów zgodnie z europejskim prawem ochrony konsumentów
Najwyższa ocena na Trustpilot
Dodaj do swojej listy życzeń iMusic

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology 2014 edition

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

40 pages, 30 Illustrations, color; 5 Illustrations, black and white; VIII, 40 p. 35 illus., 30 illus

Media Książki     Paperback Book   (Książka z miękką okładką i klejonym grzbietem)
Wydane 17 lutego 2014
ISBN13 9784431547945
Wydawcy Springer Verlag, Japan
Strony 40
Wymiary 155 × 235 × 222 mm   ·   86 g
Język English  

Zobacz wszystko od Seiji Samukawa ( np. Paperback Book )