The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses - Zhiqiang Li - Książki - Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm - 9783662496817 - 22 czerwca 2016
W przypadku, gdy okładka i tytuł się nie zgadzają, tytuł jest poprawny

Zhiqiang Li
The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses 1st ed. 2016 edition

Cena
zł 212,90

Zamówione z odległego magazynu

Przewidywana dostawa 31 gru - 5 sty 2026
Świąteczne prezenty można zwracać do 31 stycznia

Nasi klienci mówią:

14-dniowa polityka zwrotów zgodnie z europejskim prawem ochrony konsumentów
Najwyższa ocena na Trustpilot
Dodaj do swojej listy życzeń iMusic

Również dostępne jako:

73 pages, 3 black & white illustrations, 49 colour illustrations, biography

Media Książki     Hardcover Book   (Książka z twardym grzbietem i okładką)
Wydane 22 czerwca 2016
ISBN13 9783662496817
Wydawcy Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm
Strony 59
Wymiary 155 × 235 × 12 mm   ·   349 g
Język Niemiecki  

Więcej od Zhiqiang Li

Pokaż wszystko

Zobacz wszystko od Zhiqiang Li ( np. Hardcover Book i Paperback Book )